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深圳恩乐科半导体晶圆切割划片清洗用二氧化碳发泡机CO2 bubbler二氧化碳加碳机超纯水电阻调节装置、超纯水防静电装置的主要用途： 一是晶圆切割划片时带有静电，静电吸附了硅屑，清洗不干净。 二是清洗的产品本身有碱性物质，要在微酸性水中和才能去除，又不能有别的离子进入，所以需要注入纯净的CO2。配套划片机和清洗机。

恩乐科1T SUEZ、GE替换款EDI ELK-3MINI 、 ELK-1

恩乐科热水消毒型EDI 耐高温EDI ELK-30HI，用于食品、生物制药、化妆品等无菌超纯水的行业。可替换LXM30HI LXM24HI LXM18HI LXM10HI LXM04HI

恩乐科EDI整机80T/H

深圳恩乐科半导体晶圆切割划片清洗用二氧化碳发泡机CO2 bubbler二氧化碳加碳机超纯水电阻调节装置、超纯水防静电装置的主要用途： 一是芯片切割划片时带有静电，静电吸附了硅屑，清洗不干净。 二是清洗的产品本身有碱性物质，要在微酸性水中和才能去除，又不能有别的离子进入，所以需要注入纯净的CO2。配套划片机和超声波清洗机使用。 型号：ELK-1000L ELK-2000L ELK-3500L ELK-5000L ELK-7000L ELK-100000L

美国海德能反渗透膜CPA3-LD、PROC10