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深圳市恩乐科环保科技有限公司
恩乐科二氧化碳发泡机CO2 bubbler替换DIC eFLOW、NGK PRCII-2000ACD
恩乐科二氧化碳发泡机CO2 bubbler超纯水防静电装置，替代DIC eFLOW、1AP-B02、2AP-B01、NGK PRCII-2000ACD 、PRCII-1000ACD、 PRCII-1200ACD
嵌入式二氧化碳发泡机CO2 bubbler超纯水防静电装置ELK-1AP、ELK-2AP、ELK-3AP
小流量嵌入式二氧化碳发泡机 用于半导体晶圆切割划片清洗用二氧化碳发泡机CO2 bubbler二氧化碳加碳机超纯水电阻调节装置、超纯水防静电装置的主要用途： 一是晶圆切割划片时带有静电，静电吸附了硅屑，清洗不干净。ELK-1AP、ELK-2AP、ELK-3AP
恩乐科台式二氧化碳发泡机 超纯水防静电装置ELK-10A
恩乐科CO2 bubbler 台式二氧化碳发泡机 超纯水防静电装置ELK-10A，ELK-20A，ELK-30A，用于半导体晶圆划片、清洗消除产品静电，防止产品静电损伤。
恩乐科台式二氧化碳发泡机CO2 bubbler ELK-20A超纯水防静电装置
恩乐科CO2 bubbler 台式二氧化碳发泡机 超纯水防静电装置ELK-10A，用于半导体晶圆划片、清洗消除产品静电，防止产品静电损伤。
恩乐科台式半导体晶圆切割划片清洗用二氧化碳发泡机CO2 bubbler ELK-30A
恩乐科CO2 bubbler 台式二氧化碳发泡机 超纯水防静电装置 ELK-10A、ELK-20A、ELK-30A，用于半导体晶圆划片、清洗消除产品静电，半导体湿法制程，防止产品静电损伤。
恩乐科半导体晶圆切割划片清洗用二氧化碳发泡机CO2 bubbler ELK-1000L
深圳恩乐科晶圆切割划片清洗用二氧化碳发泡机CO2 bubbler二氧化碳加碳机超纯水电阻调节装置、超纯水防静电装置的主要用途： 一是芯片切割划片时带有静电，静电吸附了硅屑，清洗不干净。 二是清洗的产品本身有碱性物质，要在微酸性水中和才能去除，又不能有别的离子进入，所以需要注入纯净的CO2。配套划片机和超声波清洗机.
