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深圳市恩乐科环保科技有限公司
恩乐科台式半导体晶圆切割划片清洗用二氧化碳发泡机CO2 bubbler ELK-30A
恩乐科CO2 bubbler 台式二氧化碳发泡机 超纯水防静电装置 ELK-10A、ELK-20A、ELK-30A，用于半导体晶圆划片、清洗消除产品静电，半导体湿法制程，防止产品静电损伤。
恩乐科半导体晶圆切割划片清洗用二氧化碳发泡机CO2 bubbler ELK-1000L
深圳恩乐科晶圆切割划片清洗用二氧化碳发泡机CO2 bubbler二氧化碳加碳机超纯水电阻调节装置、超纯水防静电装置的主要用途： 一是芯片切割划片时带有静电，静电吸附了硅屑，清洗不干净。 二是清洗的产品本身有碱性物质，要在微酸性水中和才能去除，又不能有别的离子进入，所以需要注入纯净的CO2。配套划片机和超声波清洗机.
恩乐科二氧化碳发泡机CO2 bubbler ELK-3500LS超纯水防静电装置（触摸屏款）
恩乐科二氧化碳发泡机CO2 bubbler ELK-3500LS超纯水防静电装置 深圳恩乐科晶圆切割划片清洗用二氧化碳发泡机CO2 bubbler二氧化碳加碳机超纯水电阻调节装置、超纯水防静电装置的主要用途： 一是芯片切割划片时带有静电，静电吸附了硅屑，清洗不干净。 二是清洗的产品本身有碱性物质，要在微酸性水中和才能去除，又不能有别的离子进入，所以需要注入纯净的CO2。
恩乐科热水消毒型EDI 耐高温EDI ELK-3HT，替换MK-3 pharm HT
恩乐科热水消毒型EDI 耐高温EDI ELK-3HT，用于食品、生物制药、化妆品等无菌超纯水的行业。可替换MK-3 pharm HT
半导体晶圆切割划片清洗二氧化碳发泡机CO2 bubbler ELK-2000LS触摸屏款
深圳恩乐科半导体晶圆切割划片清洗用二氧化碳发泡机CO2 bubbler二氧化碳加碳机超纯水电阻调节装置、超纯水防静电装置的主要用途： 一是晶圆切割划片时带有静电，静电吸附了硅屑，清洗不干净。 二是清洗的产品本身有碱性物质，要在微酸性水中和才能去除，又不能有别的离子进入，所以需要注入纯净的CO2。配套划片机和清洗机。
恩乐科热水消毒型EDI 耐高温EDI ELK-30HI，可替换LXM30HI
恩乐科热水消毒型EDI 耐高温EDI ELK-30HI，用于食品、生物制药、化妆品等无菌超纯水的行业。可替换LXM30HI LXM24HI LXM18HI LXM10HI LXM04HI
