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恩乐科全自动二流体离心清洗机主要用于晶圆划片后清洗、摄像头模组表面微尘清洗、PCB在固晶（D/B）前的清洗、芯片固晶（D/B）、打线（WB）之后清洗、LENS、VCM、HOLDER+IR组装前的清洗，通过高压纯水冲洗及水气二流体清洗，从而实现了有效去除Holder，CMOS本体，Wafer等表面微尘颗粒。

恩乐科全自动二流体离心清洗机主要用于晶圆划片后清洗、摄像头模组表面微尘清洗、PCB在固晶（D/B）前的清洗、芯片固晶（D/B）、打线（WB）之后清洗、LENS、VCM、HOLDER+IR组装前的清洗，通过高压纯水冲洗及水气二流体清洗，从而实现了有效去除Holder，CMOS本体，Wafer等表面微尘颗粒。

深圳恩乐科半导体晶圆切割划片清洗用二氧化碳发泡机CO2 bubbler二氧化碳加碳机二氧化碳鼓泡机起泡机超纯水电阻调节装置、超纯水防静电装置的主要用途： 一是晶圆切割划片时带有静电，静电吸附了硅屑，清洗不干净。 二是清洗的产品本身有碱性物质，要在微酸性水中和才能去除，又不能有别的离子进入。

恩乐科摄像模组二流体清洗机 型号：ELK-800S 清洗对象：COB绑定后FPC金线清洗、LENS模组、FPC软板、COB模块、LENS HOLDER等

深圳恩乐科半导体晶圆切割划片清洗用二氧化碳发泡机CO2 bubbler二氧化碳加碳机超纯水电阻调节装置、超纯水防静电装置的主要用途： 一是芯片切割划片时带有静电，静电吸附了硅屑，清洗不干净。 二是清洗的产品本身有碱性物质，要在微酸性水中和才能去除，又不能有别的离子进入，所以需要注入纯净的CO2。配套划片机和超声波清洗机.型号：ELK-500L、ELK-1000L、 ELK-2000L、 ELK-3500L、ELK-5000L、ELk-6000L、ELK-7000L、ELK-100000L

深圳恩乐科半导体晶圆切割划片清洗用二氧化碳发泡机CO2 bubbler二氧化碳加碳机超纯水电阻调节装置、超纯水防静电装置的主要用途： 一是芯片切割划片时带有静电，静电吸附了硅屑，清洗不干净。 二是清洗的产品本身有碱性物质，要在微酸性水中和才能去除，又不能有别的离子进入，所以需要注入纯净的CO2。配套划片机和超声波清洗机使用。 型号：ELK-500L ELK-1000L ELK-2000L ELK-3000L ELK-4000L ELK-5000L ELK-7000L ELK-100000L