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  • 半导体晶圆切割划片清洗二氧化碳发泡机CO2 bubbler ELK-2000LS触摸屏款

    半导体晶圆切割划片清洗二氧化碳发泡机CO2 bubbler ELK-2000LS触摸屏款

    深圳恩乐科半导体晶圆切割划片清洗用二氧化碳发泡机CO2 bubbler二氧化碳加碳机超纯水电阻调节装置、超纯水防静电装置的主要用途: 一是晶圆切割划片时带有静电,静电吸附了硅屑,清洗不干净。 二是清洗的产品本身有碱性物质,要在微酸性水中和才能去除,又不能有别的离子进入,所以需要注入纯净的CO2。配套划片机和清洗机。
  • 恩乐科热水消毒型EDI 耐高温EDI ELK-30HI,可替换LXM30HI

    恩乐科热水消毒型EDI 耐高温EDI ELK-30HI,可替换LXM30HI

    恩乐科热水消毒型EDI 耐高温EDI ELK-30HI,用于食品、生物制药、化妆品等无菌超纯水的行业。可替换LXM30HI LXM24HI LXM18HI LXM10HI LXM04HI
  • 恩乐科EDI整机80T/H

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  • 恩乐科晶圆切割划片清洗用二氧化碳发泡机CO2 bubbler ELK-2000L超纯水防静电装置

    恩乐科晶圆切割划片清洗用二氧化碳发泡机CO2 bubbler ELK-2000L超纯水防静电装置

    深圳恩乐科半导体晶圆切割划片清洗用二氧化碳发泡机CO2 bubbler二氧化碳加碳机超纯水电阻调节装置、超纯水防静电装置的主要用途: 一是芯片切割划片时带有静电,静电吸附了硅屑,清洗不干净。 二是清洗的产品本身有碱性物质,要在微酸性水中和才能去除,又不能有别的离子进入,所以需要注入纯净的CO2。配套划片机和超声波清洗机使用。 型号:ELK-1000L ELK-2000L ELK-3500L ELK-5000L ELK-7000L ELK-100000L
  • 批发美国海德能反渗透膜CPA3-LD、PROC10

    批发美国海德能反渗透膜CPA3-LD、PROC10

    美国海德能反渗透膜CPA3-LD、PROC10
  • 恩乐科5MW大功率IGBT制氢电源,适配AEM、PEM电解槽、碱性电解槽

    恩乐科5MW大功率IGBT制氢电源,适配AEM、PEM电解槽、碱性电解槽

    恩乐科和成都道和赛能公司共同研发的新一代5MW大功率IGBT制氢电源,适配AEM、​PEM电解槽用IGBT全控制氢电源、碱性电解槽用。业绩:上海氢鸾、北京航宇、稳石氢能、浙江氢舟能源、中集集电、陕西华秦。
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