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二氧化碳发泡机
  • 恩乐科二氧化碳发泡机CO2 bubbler ELK-3500LS超纯水防静电装置(触摸屏款)

    恩乐科二氧化碳发泡机CO2 bubbler ELK-3500LS超纯水防静电装置(触摸屏款)

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  • 半导体晶圆切割划片清洗二氧化碳发泡机CO2 bubbler ELK-2000LS触摸屏款

    半导体晶圆切割划片清洗二氧化碳发泡机CO2 bubbler ELK-2000LS触摸屏款

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  • 恩乐科晶圆切割划片清洗用二氧化碳发泡机CO2 bubbler ELK-2000L超纯水防静电装置

    恩乐科晶圆切割划片清洗用二氧化碳发泡机CO2 bubbler ELK-2000L超纯水防静电装置

    深圳恩乐科半导体晶圆切割划片清洗用二氧化碳发泡机CO2 bubbler二氧化碳加碳机超纯水电阻调节装置、超纯水防静电装置的主要用途: 一是芯片切割划片时带有静电,静电吸附了硅屑,清洗不干净。 二是清洗的产品本身有碱性物质,要在微酸性水中和才能去除,又不能有别的离子进入,所以需要注入纯净的CO2。配套划片机和超声波清洗机使用。 型号:ELK-1000L ELK-2000L ELK-3500L ELK-5000L ELK-7000L ELK-100000L
  • CO2 bubbler 二氧化碳发泡机、加碳机、超纯水防静电设备ELK-3000L

    CO2 bubbler 二氧化碳发泡机、加碳机、超纯水防静电设备ELK-3000L

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  • 恩乐科半导体晶圆切割划片清洗用二氧化碳发泡机CO2 bubbler   ELK-3500L

    恩乐科半导体晶圆切割划片清洗用二氧化碳发泡机CO2 bubbler ELK-3500L

    深圳恩乐科半导体晶圆切割划片清洗用二氧化碳发泡机CO2 bubbler二氧化碳加碳机超纯水电阻调节装置,超纯水防静电装置的用途: 一是芯片切割划片时带有静电,静电吸附了硅屑,清洗不干净。 二是清洗的产品本身有碱性物质,要在微酸性水中和才能去除,又不能有别的离子进入,所以需要注入纯净的CO2。配套划片机和超声波清洗机使用。型号:ELK-1000L ELK-2000L ELK-3000L ELK-4000L ELK-7000L ELK-10000L
  • 恩乐科半导体晶圆切割划片清洗用二氧化碳发泡机CO2 bubbler ELK-7000L

    恩乐科半导体晶圆切割划片清洗用二氧化碳发泡机CO2 bubbler ELK-7000L

    深圳恩乐科半导体晶圆切割划片清洗用二氧化碳发泡机CO2 bubbler二氧化碳加碳机超纯水电阻调节装置、超纯水防静电装置的主要用途: 一是晶圆切割划片时带有静电,静电吸附了硅屑,清洗不干净。 二是清洗的产品本身有碱性物质,要在微酸性水中和才能去除,又不能有别的离子进入,所以需要注入纯净的CO2。配套划片机和超声波清洗机使用。 型号:ELK-1000L ELK-2000L ELK-3000L ELK-4000L ELK-7000L ELK-10000L
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